鏡面反射光譜技術用于收集平整、光潔的固體表面的光譜信息，測試反射 表面上的超薄薄膜(單分子層)或金屬基體上的薄膜;鏡面反射和衰減全反射一 樣，不需要對樣品進行任何處理，因此可以快速得到樣品的光譜信息。 

鏡面反射(Specular Reflectance)

鏡面反射是指樣品像鏡子一樣反射紅外的能量。當紅外光以某一入射角照 在樣品表面上，一部分紅外光發生反射，反射角等于入射角，形成鏡面反射(如 圖 1)；而另一部分透射入樣品中，其入射符合斯涅耳定律(Snell's Law，n1sin θ1 = n2sinθ2)。鏡面反射是測量樣品表面反射的能量或者其反射率，反射 率 R = |r|2 = IR/I0 (r 為偏振系數)。反射率 R 與偏振相關，平行偏振系數 r‖ 和垂直偏振系數 r ? 計算如等式 1 和 2。

r‖ = (n2cosθ1 ? n1cosθ2) / (n2cosθ2 + n1cosθ1) 等式 1 

r ? = (n1cosθ1 ? n2cosθ2) / (n2cosθ2+ n1cosθ1) 等式 2

當入射光的入射角為布魯斯特角θB(Brewster angle)時，反射光和折射 光相垂直(θ1+ θ2 = 90°)，沒有平行偏振光被反射(r‖ = 0)。根據斯涅耳 定律 n1sinθB = n2sin(90-θB) = n2cosθB, 可得θB = arctan(n2/n1)。 

物質的折射系數 n，在無分子共振吸收頻率的區域，隨頻率變化是緩慢的， 但在分子共振吸收頻率，折射率會發生突變，成為復折射率ñ，ñ = n + ik. k 為消光系數，而對應的吸光系數α = 4πk/λ。由于折射系數 n 和消光系數 k 發生突變，導致反射率 R 也在共振吸收頻率附近發生突變，因此紅外反射光譜 與相應的紅外透射光譜有差異(圖 2)。通過 Kramers?Kronig 變換可將反射光 譜變換為類似吸收光譜(圖 3)。

反射-吸收(Reflectance Absorption)

反射-吸收測量是將樣品放在反射基底上進行，光透過樣品，在基底發生 鏡面反射，然后再次透過樣品(如圖 4)，這樣得到的光譜叫做反射-吸收光譜。若樣品的厚度為 d，那么樣品光透過樣品的光程 L 與入射角θ2 的的關系為 L = 2d/ cosθ2。由此可知入射角越大，則光程越長，靈敏度就越高

鏡面反射+反射-吸收

通過鏡面反射和反射-吸收的介紹，相信大家能發現當樣品既能反射透射 也能反射紅外光(如圖 5)，這時候我們得到的光譜就是鏡面反射和反射-吸收 光譜的總和。當樣品厚度均勻時，透射光和反射光之間會相互干涉，在測得的 光譜中會出現干涉條紋，根據干涉條紋可以計算樣品的厚度，如半導體外延層 的厚度就可以采用這種方法測定。 

鏡面反射的強度取決于入射角、偏振狀態、基底和樣品的厚度、折射率、 吸收特性以及表面的光滑程度。 

當樣品厚度和性質不變時，鏡面反射的強度與入射角、偏振狀態相關。上 文提到，入射角越大，光程越長，那么鏡面反射光譜的強度就越強。L = 2d/ cos θ2，當θ2=85°時，L=22.95d，即光程約為薄膜厚度的 23 倍，因此大入射角十分適合非常薄的薄膜測試，如蛋白質單分子層。且與透射光譜比，該方法的 靈敏度和信噪比都大大提升。

當紅外光在金屬表面發生反射時，反射光束的電場矢量 E 的相位與入射光 比較將發生一些變化，這種變化與入射光的偏振狀態以及入射角相關。當入射 光電矢量與入射面垂直，該狀態的偏振光成為 S 偏振光(圖 6)。在這種情形下， 反射光電矢量與入射光電矢量的相位差不隨入射角的改變而變化，并目相位差 接近 180°，因此反射光與入射光在反射表面產生相消干涉，加上兩者振幅接 近，故疊加產生的電場強度接近于零。當入射光電矢量與入射面平行，該狀態 的偏振光成為 P 偏振光(圖 6)。P 偏振光在反射面上行為與 S 偏振光不同，P 偏振光隨著入射角變化反射光電矢量的相位隨之發生變化。在掠角入射情形下， 相位的變化使反射光與入射光在反射界面產生相長干涉，電場振幅增加近 1 倍。因為電場強度與振幅平方成正比，因此在掠角情形下，金屬表面電場的強 度約比入射電場的強度增加了 4 倍。

鏡面反射附件一般分為固定角反射附件和可變角反射附件。固定角鏡面反 射附件一般分為 10°、30°、45°、70°、80°和 85°反射附件，其中 80° 和 85°反射附件又稱之為掠角反射(Grazing Incidence Reflection)附件。 可變角鏡面反射附件是指入射角連續可變，一般變化范圍為 30°?80°，有些 變角反射附件可調的角度更寬。

用戶可根據自身的具體測試需求選擇合適的鏡面反射附件。鏡面反射附件 主要用于測試金屬表面改性樣品、樹脂和聚合物薄膜或涂層、油漆、半導體外 延層等。可以使用絕對反射附件，測試金屬或半導體或窗片的絕對反射率；甚 至將電化學池附件配合變角反射附件，用于研究電極表面的電化學反應等。

10°鏡面反射附件

10°鏡面反射附件主要用于反射率的測量。入射角度越小，偏振效應對反 射率的影響越小，10°的設計使產生一個準直光束來照亮樣品區域，使反射率 測量以均勻的 10 度入射角進行，盡可能的減小偏振效應對反射率的影響。其 可用于測量各種表面的接近正常的反射率，推薦其用來測量玻璃的反射率。如 圖 7，為熒颯光學提供的 10°鏡面反射附件。其不僅能匹配熒颯光學 FOLI10-R 和 FOLI20 傅里葉紅外光譜儀、FOLI30V 真空型傅里葉紅外光譜儀，還與其它廠家生產的光譜儀相匹配。

30°和 45°鏡面反射附件

30°和 45°鏡面反射附件適合厚膜和薄膜厚度的測量，其入射深度一般 在 1 微米以上。30°和 45°鏡面反射附件的光學設計相對簡單，紅外光利用 效率高，可提供高質量的光譜識別涂層和厚膜，對于膜厚的測量也能提供穩定 數據。熒颯光學的 FOLI10 配備 30°的朝上(圖 8)和朝前反射附件。

80°和 85°掠角鏡面反射附件 

掠角反射附件的入射深度淺，一般小于 1 微米，適合于測定金屬表面亞微 米級薄膜、納米級薄膜、LB 膜、單分子膜等。在上文中提到入射角越大光程 越長，因此 80°和 85°掠角附件可以提供長光程光譜。此外，在入射角在 88° 時，在金屬界面上電場強度達到最大值，此時樣品與紅外光也有強的相互作用，但實驗上很難實現，因此常用 80°和 85°掠角反射。此外，掠角反射的 光譜信號弱(~10-3 AU)，推薦使用高靈敏度的檢測器，如液氮制冷檢測器 (LN-MCT)。如圖 9 為 80°掠角鏡面反射附件。

絕對反射附件 

鏡面反射率是評價一些表面材料光學特性的重要參數，根據反射根據測量 方式的不同，分為相對反射率和絕對反射率。在上面固定角測試的反射率稱為 相對反射率，樣品的反射率通常是根據一個有高紅外區域反射率的金鏡來測量 和計算的，較適用于低反射率的樣品。圖 10 展示了兩種絕對反射附件的測量 方式，較適用于高反射率的樣品，他們都是將背景測試中的反射鏡集成到樣品 測量中，且保持光程一致，這樣就直接排除了反射鏡的影響。

紅外偏振器 

自然光以及常見光源發出的自然光都是一種隨機偏振波，沒有任何偏振性 如圖 11 所示。當自然光通過偏振器后，變為只有一種取向的偏振光，如圖 11 所示自然光通過垂直方向的偏振器后變為垂直偏振光。 

分子的基團振動在發生偶極矩變化時具有紅外活性，當入射紅外光的偏振 電矢量與偶極矩變化方向平行時，分子才會吸收紅外光使紅外吸收譜帶增強， 而垂直時則不能吸收，導致不出現紅外譜帶。使紅外光束通過紅外偏振器得到 紅外偏振光，再利用紅外偏振光測定各向異性的樣品，得到偏振紅外光譜。最 后從偏振紅外光譜中計算各個譜帶的紅外二向色性比，可以得到各個振動基團 在空間的取向，從而判斷樣品分子的構象。用戶在購買鏡面反射附件時，可以 根據需求添加紅外偏振器。

●使用鏡面反射測量反射光譜時，如圖 3 所示，需要對光譜進行 Kramers ?Kronig 變換將反射光譜變換為吸收光譜。

●測量掠角反射光譜時，入射角很大，樣品表面上的紅外光斑是橢圓形的。 當采用 80°掠角反射附件時，若經掠角反射附件的球面鏡聚焦后的紅外光斑 直徑為 2mm，那么照射在樣品表面上的橢圓形光斑面積為 21mm×2mm。如果紅 外光斑直徑為 5mm，那么橢圓形光斑的面積將達到 29mm×5mm。因此在測試掠 角反射光譜時，要求樣品有足夠的長度。如果樣品面積太小，紅外光無法得到 充分利用，會使光譜信號變弱。 

●鏡面反射與反射光的強度有關，當樣品附著的基底是能吸收或者反射紅 外的材料時，反射光中除了樣品的信息還會包含基底的信息，因此一般選用的 基底需要反射率高且不吸收紅外光。常用鍍金、鍍銀或鍍鋁的表面作為基底， 且用相同鍍層的鏡面采集背景光譜。此外，背景測量時需要保證反射鏡面干凈 無污染，污染的鏡面可能導致測量的樣品光譜中出現假峰。